【48812】泽攸科技自主研制的电子束光刻机完结要害打破有望打破国外技能壁垒

  近来，据知情的人悄悄表明，国内微纳技能领军企业泽攸科技联合松山湖资料实验室，在全自主研制的电子束光刻机整机开发与产业化项目上获得严重进展。他们成功研制出电子束光刻系统，完结了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研制与产业化迈出要害一步。

  业内人士表明，电子束光刻机是当时推进新资料、前沿物理、半导体、微电子、光子、量子等研讨范畴开展的重要配备之一。我国在这一范畴长时间面对技能壁垒，商场高度依靠进口。泽攸科技经过多年技能堆集，已构建起完好的电子束技能系统，其产品竞争力与影响力继续提高。

  据悉，2023年3月，泽攸科技与松山湖资料实验室一起出资2400万元，建立联合工程中心，方针是打造电子束技能创新基地。工程中心将深入开展电子束与新资料穿插范畴的前沿研制技能，完结电子束配备的自主可控。

  业内人士泄漏，现在泽攸科技已在自主研制的扫描电镜基础上，完结电子束光刻机工程样机研制，并经过对测验样片的曝光出产，制作出高分辨率杂乱图形，到达领先水平。这标志着该公司电子束光刻机自主发明新式事物的才能的严重提高。下一步该公司将继续完善光刻机功能，以到达批量使用要求。

  值得一提的是，上一年6月泽攸科技成为首家被Nature系列期刊全文报导的我国科学仪器公司，引起广泛重视。作为一家专心于原位TEM／SEM解决方案和台式SEM的公司，泽攸科技现已成功将其产品面向国内外商场，并获得了不错的成果。泽攸科技也连续推出了台阶仪、PECVD、低温探针台、扫描隧道显微镜等产品。

  业内人士以为，泽攸科技自主研制的电子束光刻机必将加快完结量产和商业化，这不只将大幅度下降国内芯片制作本钱，还将打破国外企业的技能壁垒，使我国完结电子束光刻机技能的自主可控，推进国产代替，保证国家信息安全。